專(zhuān)業(yè)從事各種高精密研磨設(shè)備、拋光設(shè)備及其配套產(chǎn)品和消耗材料的高新企業(yè)
FD7004PA硅片研磨機(jī)
主要用途：
本設(shè)備主要用于藍(lán)寶石襯底、藍(lán)寶石外延片、硅片、陶瓷、石英晶體、其他半導(dǎo)體材料等薄形精密零件的單面高精密研磨及拋光。
設(shè)備特點(diǎn)：1.本設(shè)備為單面精密研磨設(shè)備，采用先進(jìn)的機(jī)械結(jié)構(gòu)和控制方法，研磨加工效率高，運(yùn)行穩(wěn)定。
2.整機(jī)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡(jiǎn)單方便，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。
3.主電機(jī)采用變頻調(diào)速控制，實(shí)現(xiàn)主機(jī)軟啟動(dòng)、軟停機(jī)，降低設(shè)備運(yùn)行沖擊，減少工件損傷。
4.工件研磨壓力采用氣缸加壓方式，通過(guò)電氣比例閥控制實(shí)現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制，保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。
5.上壓盤(pán)采用主動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式，在確保產(chǎn)品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統(tǒng)一性。
6.研磨盤(pán)與上壓盤(pán)都設(shè)置了冷卻水冷卻功能，在保證研磨液發(fā)揮最大效率的同時(shí)減少研磨盤(pán)面的變形。
7.設(shè)備自帶盤(pán)面修整機(jī)，盤(pán)面修整后可保證0.01mm的盤(pán)面平整度。
設(shè)備參數(shù)：
磨盤(pán)規(guī)格
700mm
陶瓷盤(pán)直徑
240-260mm
主電機(jī)功率
4KW/380V
壓盤(pán)電機(jī)功率
0.4KW/380V*4（選配）
主電機(jī)轉(zhuǎn)速
100rpm（max）
設(shè)備工位數(shù)
4個(gè)
設(shè)備規(guī)格
1200*1500*2300mm
設(shè)備重量
2000KG
設(shè)備圖片：
該設(shè)備磨拋效果：
技術(shù)參數(shù)
? 拋光盤(pán)尺寸 Φ700mm× Φ160mm×12.7mm
? 工作工位 4 組
? 陶瓷吸盤(pán)直徑 Φ305mm
? 加壓方式 氣缸加壓
? 主電機(jī)功率 4 KW/380V
? 工件盤(pán)驅(qū)動(dòng)功率(伺服馬達(dá)) 0.4KW/380V ×4 (選配)
? 工作氣壓 0.4-0.6MPa
? 工件盤(pán)轉(zhuǎn) 速 1-40rpm
? 拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速 5- 100rpm
? 加工粗糙度 Ra:0.0002
? 設(shè)備總重量 1800 kg
? 外形尺寸L ×W ×H 950 ×1350 ×2300 mm
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